罗斯莫斯科电子技术学院(MIET)日前宣布,将开展制造光刻机

罗斯莫斯科电子技术学院(MIET)日前宣布,将开展制造光刻机

俄罗斯莫斯科电子技术学院(MIET)日前宣布,将开展制造光刻机。ASML采用的是极紫外光EUV,波长13.5nm,而俄罗斯研发的则是基于同步辐射加速器和等离子体源的X射线光刻机,使用的是X射线,波长介于0.01nm到10nm之间。

由于波长够短,可以做到不需要光掩模版,如果俄罗斯成功了,那真是既省钱又省心。俄罗斯如何搞定X射线工艺以及效率的提升问题,全世界都拭目以待。
俄罗斯2002年时就开展了一个名为“基于微聚焦X射线管列阵的软X射线源研制,适用于10nm无掩膜光刻机”的项目研究,很有实力。